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真空蒸發(fā)原理要點(diǎn)如下

關(guān)鍵詞 真空 , 成膜|2011-06-28 15:48:13|基礎(chǔ)知識(shí)|來源 中國(guó)磨料磨具網(wǎng)
摘要 1.真空(條件)真空蒸鍍是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)的一種表面處理方法,必須在一定的真空條件下進(jìn)行。2.材料(對(duì)象)成膜材料一般是金屬或合金。膜的基體(鍍件)既可以是金屬,也可以是非金屬。基...
  1.真空(條件) 真空蒸鍍是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)的一種表面處理方法,必須在一定的真空條件下進(jìn)行。
  2.材料(對(duì)象) 成膜材料一般是金屬或合金。膜的基體(鍍件)既可以是金屬,也可以是非金屬。基體形狀可以是片狀,粉粒狀等各種形狀。
  3.蒸發(fā)(手段) 成膜材料加熱蒸發(fā),使之汽化。汽化粒子可以是分子,原子,原子團(tuán)。加熱方式有多種,例如電阻加熱法,高頻感應(yīng)法,電子束法(E形電子槍法),離子束法,激光束法等。
  4.成膜(目的) 蒸發(fā)汽化的粒子在基體表面上鍍覆(附著,粘附,凝聚,凝固,沉積,冷凝,凝結(jié)),形成符合要求的鍍層(薄膜)。

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真空離子鍍過程包含如下四個(gè)要點(diǎn)

1.在一定的真空條件下進(jìn)行。2.成膜材料蒸發(fā)。可以采用真空蒸鍍相同的蒸發(fā)方法,還可以采用空心陰極型電子束法和真空電弧法。3.蒸發(fā)的成膜材料部分電離。電離方式,可以利用惰性氣體等離子體(例如直流輝光放電法,空心陰極法)...

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