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真空蒸發(fā)鍍工藝程序和操作要點(diǎn)

關(guān)鍵詞 真空 , 蒸發(fā)鍍|2011-06-28 15:59:22|制造技術(shù)|來源 中國磨料磨具網(wǎng)
摘要 基體(磨料),蒸發(fā)器(坩堝),真空室(鐘罩和鋁箔或鋁板制成的內(nèi)鐘罩)的鍍前清潔處理與安裝準(zhǔn)備→抽真空→真空凈化處理(磨料和真空容器內(nèi)表面,用真空加熱法或電子束,離子束轟擊法凈化處理...
  基體(磨料),蒸發(fā)器(坩堝),真空室(鐘罩和鋁箔或鋁板制成的內(nèi)鐘罩)的鍍前清潔處理與安裝準(zhǔn)備→抽真空→真空凈化處理(磨料和真空容器內(nèi)表面,用真空加熱法或電子束,離子束轟擊法凈化處理,方法與處理聚晶用的金剛石相同)→蒸發(fā)材料的預(yù)熔(除去吸附的氣體和低熔點(diǎn)雜質(zhì))→蒸鍍→停機(jī)取料。
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真空蒸發(fā)鍍工藝程序和操作要點(diǎn)

基體(磨料),蒸發(fā)器(坩堝),真空室(鐘罩和鋁箔或鋁板制成的內(nèi)鐘罩)的鍍前清潔處理與安裝準(zhǔn)備→抽真空→真空凈化處理(磨料和真空容器內(nèi)表面,用真空加熱法或電子束,離子束轟擊法凈化處理,方法與處理聚晶用的金剛石相同)→蒸...

日期 2011-06-29   制造技術(shù)

真空蒸發(fā)原理要點(diǎn)

1.真空(條件)真空蒸鍍是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)的一種表面處理方法,必須在一定的真空條件下進(jìn)行。2.材料(對象)成膜材料一般是金屬或合金。膜的基體(鍍件)既可以是金屬,也可以是非金屬。基體形狀可以是片狀,粉粒狀等各種形狀。...

日期 2011-06-29   基礎(chǔ)知識

真空蒸發(fā)鍍的定義

真空蒸發(fā)鍍是將真空容器內(nèi)放置的蒸發(fā)物質(zhì)加熱蒸發(fā),并使蒸發(fā)的粒子凝固在被鍍基體表面上而形成薄膜的方法。真空蒸發(fā)鍍也稱為真空蒸鍍、真空熱蒸發(fā)鍍、真空蒸發(fā)鍍膜等,它是最早出現(xiàn)的真空鍍膜方法。

日期 2011-06-29   基礎(chǔ)知識

真空離子鍍過程包含如下四個要點(diǎn)

1.在一定的真空條件下進(jìn)行。2.成膜材料蒸發(fā)。可以采用真空蒸鍍相同的蒸發(fā)方法,還可以采用空心陰極型電子束法和真空電弧法。3.蒸發(fā)的成膜材料部分電離。電離方式,可以利用惰性氣體等離子體(例如直流輝光放電法,空心陰極法)...

日期 2011-06-29   制造技術(shù)

真空離子鍍定義

在一定的真空狀態(tài)下,將從蒸發(fā)源蒸發(fā)的粒子部分地離子化,并和其余的中性粒子一起沉積在基體上而形成鍍層的技術(shù),稱為真空離子鍍,簡稱離子鍍。也可稱為真空離子蒸鍍。

日期 2011-06-29   基礎(chǔ)知識

真空濺射鍍定義

高能離子或中性原子碰撞物體表面,使表面的原子或原子脫離物體的現(xiàn)象,稱為濺射或噴濺。由低壓氣體放電產(chǎn)生的正離子碰撞陰極表面而發(fā)生的濺射,稱為陰極濺射。利用磁控管進(jìn)行的陰極濺射,稱為磁控陰極濺射,簡稱磁控濺射。利用上述濺...

日期 2011-06-28   基礎(chǔ)知識

真空蒸發(fā)原理要點(diǎn)如下

1.真空(條件)真空蒸鍍是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)的一種表面處理方法,必須在一定的真空條件下進(jìn)行。2.材料(對象)成膜材料一般是金屬或合金。膜的基體(鍍件)既可以是金屬,也可以是非金屬。基體形狀可以是片狀,粉粒狀等各種形狀。...

日期 2011-06-28   基礎(chǔ)知識

真空蒸發(fā)鍍的定義

真空蒸發(fā)鍍是將真空容器內(nèi)放置的蒸發(fā)物質(zhì)加熱蒸發(fā),并使蒸發(fā)的粒子凝固在被鍍基體表面上而形成薄膜的方法。真空蒸發(fā)鍍也稱為真空蒸鍍、真空熱蒸發(fā)鍍、真空蒸發(fā)鍍膜等,它是最早出現(xiàn)的真空鍍膜方法。

日期 2011-06-28   基礎(chǔ)知識
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